V-Ray 光照贴图烘焙是将场景全局光照（GI）、阴影、AO 等信息预计算为纹理贴图的核心流程，能大幅提升实时渲染效率，参数适配直接决定烘焙质量与速度。以下以 3ds Max+V-Ray 5/6 为例，详解全流程参数设置与优化方案。
一、场景与 UV 预处理（烘焙基础）
UV 规范：为静态模型创建第二套 UV 通道（Lightmap UV），无拉伸、无重叠，UV 边界预留 2-4px 间隙，避免烘焙白边。建筑场景用 2048-4096px 分辨率，道具用 1024-2048px，按模型复杂度匹配。
场景清理：隐藏 / 排除动态物体（如角色、移动物体），仅保留静态几何体；关闭不必要光源，保留主光与环境光，避免重复光照计算。
材质设置：烘焙前可启用覆盖材质（Override Material），使用纯灰色漫反射材质，消除材质颜色、高光对光照信息的干扰，确保烘焙结果仅保留光照数据。
二、核心渲染参数配置（质量与速度平衡）
1. 全局开关与图像采样器
全局开关：勾选不渲染最终图像，仅计算烘焙数据；关闭帧标记，避免水印污染贴图。
图像采样器：选自适应细分（Adaptive Subdivision），最小速率 - 3、最大速率 0；噪点阈值设为0.005-0.01（高质量 0.005，快速预览 0.01），平衡噪点与计算时间。
DMC 采样器：噪声阈值 0.001，时间独立采样关闭，确保烘焙一致性。